旋轉靶材相對于平面靶材具有很多的優(yōu)點，I)利用率高(70%以上)。甚至可以達到90%;2)濺射速度快，為平面靶的2-3倍；3)有效地減少打弧和表面掉渣，工藝穩(wěn)定性好坐寸ο對于旋轉鍍膜靶材，要求旋轉靶`材為單根整體，或分段焊接在同一襯管上。以目前技術條件，旋轉靶材的制備方法主要包括熱等靜壓法、熱壓燒結法和澆鑄法，以上工藝各有優(yōu)缺點，但是對不同尺寸的靈活控制難以滿足，尤其是熱壓燒結法只能生產長度為300mm以內的單支靶材，因此只能通過多節(jié)分段焊接固定在襯管上以達到一定的長度要求，這樣增加了生產的步驟,提高了靶材生產的成本。等離子噴涂旋轉靶材，是將金屬或非金屬噴涂粉在等離子焰流中加熱到熔化或半熔化狀態(tài)。       熱噴涂技術將會是一種可能降低SOFC制造成本的關鍵技術，熱噴涂可以設計制備特定孔隙率的高電導率多孔電極。在典型的SOFC結構中，不同的電池功能層往往采用不同的材料，電池內有可能包含的材料包括氧化物、合金以及金屬陶瓷。此外，熱噴涂技術操作簡單，成本低廉。冷噴涂涂層也應用廣泛，冷噴涂Ti的涂層具有很高的性能密度比及耐腐蝕能力。噴涂中的氧化和燃燒現象，殘余應力低，結合強度高，提高。兩種鋁涂層的硬度為72HV0.04和58HV0.04，涂層的硬度較高。兩種涂層與基體的結合強度為15MPa和16MPa。濺射靶材根據材料可分為金屬材料(純金屬鋁/鈦/銅/鉭等)、合金材料(鎳鉻/鎳鈷合金等)、無機非金屬(陶瓷化合物：氧化物/硅化物/碳化物等)、復合材料靶材。       按使用的原材料材質不同，濺射靶材可分為金屬/非金屬單質靶材、合金靶材、化合物靶材等。濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優(yōu)點，已成為制備薄膜材料的主要技術之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應用量大的PVD鍍膜材料。       靶坯與背板綁定完成后，需要采用水浸式超聲波掃描儀進行粘結層的檢測驗粘結面積是否達標。機械加工：靶坯需要進行準確的機械成型加工，用于與靶坯復合使用的背板，由于承擔與鍍膜設備配合、承受高壓水冷等作用，需要具備非常高的尺寸精度與機械精度，加工難度較高，尤其是帶內循環(huán)水路的背板，由于材質的特殊性，水路的密閉焊接非常困難，需要用到特種焊接工藝。金屬化：靶坯與背板在綁定之前，為增強靶材和靶材與焊料的金屬潤濕性能，需要進行焊合面的預處理，使之表面鍍層過渡層。綁定：大部分靶材由于材料的物理或者化學性能受限，不可直接裝機鍍膜使用，需要采用金屬焊料將靶坯與背板相互焊合連接，并且表面有效粘結率需要達到大于95%的大面積焊合。整個過程需要在高溫和高壓下進行。       真空鍍膜設備目前主要用于塑料薄膜、金屬、燈具、陶瓷、玻璃等制品表面蒸鍍金屬薄膜、七彩膜、仿金膜等，從而獲得光亮、美觀、廉價的塑料，陶瓷等表面金屬化制品。廣泛應用于各種塑料玩具、塑料日用裝飾品、人造首飾、圣誕裝飾品、家用電器裝飾、電器儀表、裝飾、燈具的表面金屬化鍍膜。齊全的真空鍍膜設備要求有真空鍍膜機、清洗裝置、冷卻裝置以及真空鍍膜檢測裝置，目前檢測裝置可以選擇在真空鍍膜機上安裝光密度在線檢測儀來連續(xù)監(jiān)控真空鍍膜在線生產的產品鍍膜厚度的品質。那么我們應該如何選購合適的真空鍍膜機呢？應該從已下幾個方面考慮：，根據要鍍膜工件的材質，需要鍍出來的是什么樣效果來選購真空鍍膜機的種類。       在真空室的左右兩側設置左右大門，而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，可在該雙門上預留該兩裝置的接口，以備需要時換裝。真空鍍膜機一般都是由真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、薄膜卷繞系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等主要部分組成。當薄膜運行速度達到一定數值后，打開擋板使氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、冷卻即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、基材薄膜的移動速度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在250～500。而蒸發(fā)真空鍍膜機是專業(yè)在塑料表面進行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的專用設備，鍍出的膜層牢固且細密，是工業(yè)化生產的理想設備，其特點是它的環(huán)保性，真空鍍膜設備屬于無三廢、純凈的清潔生產設備。磁控濺射靶材是真空磁控濺射鍍膜的核心部件。