概述：本設(shè)備適用于半導(dǎo)體工藝中對(duì)硅片周邊進(jìn)行濕法化學(xué)腐蝕形成均勻一致的斜角，本設(shè)備技術(shù)先進(jìn)，適用于規(guī)模生產(chǎn)。設(shè)備是由電氣控制，機(jī)架，箱體，清洗槽，機(jī)械手，伺服系統(tǒng)，層流凈化，管路部分組成。清洗槽是由去離子水洗槽，有機(jī)溶劑槽，酸槽，或堿槽構(gòu)成。管路部分為保證工作介質(zhì)的潔凈和避免雜質(zhì)析出，特采用進(jìn)口氣動(dòng)閥，PFA,PVDF,管道，全氟循環(huán)系統(tǒng)。除裝片和取片外，其余工藝均可自動(dòng)完成。電控部分：人機(jī)界面為觸摸屏，方便美觀。