氧化鈰在拋光上的前景

信息和光電子領域的高速發(fā)展促進了化學機械拋光 (CMP)技術的不斷更新。除了設備和材料外 , 非常高精度表面的獲取更有賴于研磨粒子的設計與工業(yè)化生產,以及相應的拋光漿料的調配。而且隨著表面加工精度和效率要求的不斷提高，對拋光材料的要求也越來越高。二氧化鈰在微電子器件和準確光學元器件表面準確加工中已經得到廣泛應用。

氧化鈰拋光粉（VK-Ce01）拋光粉因具有切削能力強，拋光效率高，拋光精度高，拋光質量好，操作環(huán)境清潔，污染小，使用壽命長等優(yōu)點，而在光學準確拋光和CMP等領域占有較其重要的地位。

氧化是基本性質：

二氧化鈰，又稱氧化鈰，為鈰的氧化物，此時鈰的化合價為+4價，化學式為CeO2。純品為白色重質粉末或立方體結晶，不純品為淺顏色甚至粉紅色至紅棕色粉末(因含有微量鑭、鐠等)。常溫、常壓下，二氧化鈰是鈰的穩(wěn)定氧化物。鈰還能形成+3價的Ce2O3，其不穩(wěn)定，會和O2生成穩(wěn)定的CeO2。氧化鈰微溶于水、堿和酸。密度7.132 g/cm3，熔點2600℃，沸點3500℃ 。