科研實(shí)驗(yàn)專(zhuān)項(xiàng)使用 二氧化硅靶材SiO2磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料 產(chǎn)品介紹        二氧化硅（SiO2）常溫下為固體，不溶于水，是酸性氧化物，不跟一般酸反應(yīng)，但溶于氫氟酸及熱濃磷酸，能和熔融堿類(lèi)起作用。自然界中存在有結(jié)晶二氧化硅和無(wú)定形二氧化硅兩種。結(jié)晶二氧化硅因晶體結(jié)構(gòu)不同，分為石英、鱗石英和方石英三種。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導(dǎo)纖維、電子工業(yè)的重要部件、光學(xué)儀器、工藝品和耐火材料的原料，是科學(xué)研究的重要材料。 產(chǎn)品參數(shù) 中文名 二氧化硅       化學(xué)式 SiO2          熔點(diǎn) 1650±50℃ 分子量 60.084          密度2.2 g/cm3      沸 點(diǎn) 2230℃ 純度 99.99% 支持合金靶材定制，請(qǐng)?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會(huì)盡快為您報(bào)價(jià)?。?nbsp; 服務(wù)項(xiàng)目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制?？蒲袉挝回浀礁犊睿|(zhì)量保證，售后無(wú)憂！ 產(chǎn)品附件：發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝 適用儀器：多種型號(hào)磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備  質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢驗(yàn)手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報(bào)告。  加工流程：熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢驗(yàn)→包裝出庫(kù)