在光電顯示領域，其液晶品種從TN→STN→TFT的逐步升級；從黑白到彩色，從低分辨率向高分辨率，從小屏幕到大屏幕的發(fā)展已成為必然趨勢。原有的超聲、化學清洗已不能滿足當前清洗潔凈度要求。 基本原理與傳統(tǒng)的清洗技術如化學法、物理法（例超聲波）不同，與新近發(fā)展的等離子體清洗、激光清洗等也有較大不同。主要是應用光化學原理與技術，技術關鍵在于特種大功率短波紫外、真空紫外光源。其原理為利用光子能量將有機物的高分子鏈、大分子鏈，斷裂成小分子、原子、自由基等；及將空氣中的氧分子變成臭氧O3。O3再經(jīng)光子的作用產(chǎn)生激態(tài)氧原子O*，O*將斷裂后的有機物質(zhì)強氧化變成CO, CO2,H2O等揮發(fā)，隨排氣并排出，不留任何痕跡，屬干式法，無接觸型；常溫、常氣壓下無損傷，不使用任何化學藥品，環(huán)保無二次污染；對物體表面的較難清洗的油脂及有機污染物有特殊清洗效果。 大功率特種專用紫外光源是其中的關鍵技術，其波長已延伸到真空紫外波段.我公司經(jīng)幾年攻關已完成多項專利技術，如：真空紫外光譜儀，大功率熱、冷陰極光清洗機專用光源，清洗效果測試設備等。 我公司的光清洗機系列產(chǎn)品，主要創(chuàng)新點是：寬溫區(qū)恒照度、大功率紫外光源、優(yōu)化氣氛控制的自控系統(tǒng)、自動化程度高、自凈化設計等。具有，工作穩(wěn)定，利用光子作用實現(xiàn)了對污染物的分解、氧化、氣化，并被排除.     本產(chǎn)品除用于液晶生產(chǎn)中需清洗的各道工序外，還有十分廣泛的領域如：ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理，在液晶顯示器件、半導體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等領域。