高純鋁靶 化學(xué)符號：Al 外    觀：銀白色原 子 量：26.98154 蒸發(fā)溫度：1220℃密    度：2.7g/cm3 熔    點：660℃沸    點：2467℃ 汽化溫度：1082℃電 阻 率/μΩ•cm:2.66 電阻溫度系數(shù)/℃-1:4.20×10-3溶 解 于：氫氧化鈉，堿類，稀硝酸 蒸發(fā)方式：鎢絲或鉬舟蒸發(fā)源材料（絲、片）:W坩    堝:BN、TiC/C、TiB2-BN 性    能：鋁膜從紫外區(qū)到紅外區(qū)具有平坦而且很高的反射率，鋁膜對基地的附著力比較強，由于鋁膜表面總是存在著一層透明的Al2O3薄膜的保護，所以鋁膜的機械強度和化學(xué)穩(wěn)定性都比較好。通常真 空蒸發(fā)制備的鋁膜呈銀灰色，但有時也呈黑色。蒸發(fā)源為電子槍，基地為氧化硅薄膜（100nm厚），蒸鍍鋁料的純度為99.999%。合金及相濕、鎢多股絞合較好；加工性能好，可加工成任意形狀；應(yīng)   用：保護膜，反射膜，增透膜用   途：超純鋁用于制造光電子存儲媒體；作為集成電路的配線